文/王新喜近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。EUV光刻机是制造先进芯片的关键设备，制造 EUV ...

美国芯片禁令重创欧美大厂！以变革应对变局，以远见超越未见。2024年终策划《变局之下》聚焦出口管制对欧美芯片设备厂业绩的冲击分析。

美西方打破脑袋都想不明白，阿斯麦的光刻机是很多发达国家提供的零部件，阿斯麦组装的，就连阿斯麦的CEO都公开表示,就算给你图纸，你也造不出光刻机,因为它有2万多个零部件。算是整个西方发达国家联手造的，一个国家肯定无法生产这么多零部件。

12月2日，美国商务部工业与安全局（BIS）发布半导体出口管制新规，事无巨细的新增了140个实体清单，涵盖中国的设备厂、晶圆厂甚至是投资公司。本轮限制的重点针对的是国产设备和HBM领域，新增的关键规则包括： ...

日本突然断供光刻胶，这件事宛如一颗重磅炸弹，瞬间砸进全球芯片产业链。光刻胶作为芯片制造的关键材料，失去了它，整个生产链条都会陷入瘫痪。而如今，全球高端光刻胶供应几乎完全依赖日本，日本的这一操作，可谓精准地扣住了产业的咽喉。

1984年4月1日愚人节这一天，飞利浦和跟荷兰的一家小公司合资，成了一家新公司。新公司的缩写叫ALS，跟渐冻症的缩写是一样的。一直到1996年，这家公司改名叫ASML。

12月20日消息，光刻机作为重大技术装备领域的国之重器，不仅是衡量一个国家综合国力与科技水平的关键指标，还直接关系到国家安全和科技自主可控的未来。然而，其研制之路却异常艰难，充满了重重挑战。

据陆媒报导，俄罗斯已公布自主开发EUV（极紫外光）光刻机的路线图，这款EUV光刻系统与艾斯摩（ASML）的标准不同，但其目标是要比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。一些大陆网民在网上留言对此表示质疑，同时也有网民热情欢呼：「还是老大哥给力，突破欧美 ...

近日，湖南大学段辉高教授团队针对光刻工艺中湿法溶剂去胶带来的环境和可持续发展问题，开发出一种全新的干式剥离光刻范式。 图 | 段辉高（来源：段辉高） ...

光刻胶，这一在科技领域鲜少被公众熟知的材料，却在半导体行业中扮演着举足轻重的角色。近年来，中国在科技领域的进步显著，但每当谈及光刻胶，不少专家仍显露出无奈之情。 光刻胶，究竟为何物？它究竟应用于哪些领域？为何提及光刻胶，国人心中总会涌起一股挫败感？

12月18日，Rapidus宣布其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在位于北海道北部城市千岁的IIM-1工厂交付，并开始安装。这是日本首台用于大规模生产尖端半导体的EUV（极紫外）光刻系统。

面对技术封锁和地缘政治挑战，俄罗斯正积极寻求独立发展相关技术。国际电子商情20日从外媒获悉，俄罗斯计划自主开发EUV光刻机，目标是制造出比ASML光刻机更经济、更易于制造的设备…… ...