TWINSCAN 和浸没式技术 时间来到了1990年代末，光刻机的波长也从248nm进入到193nm，这就是著名的ArF准分子激光器。 产业在193nm波长上卡了近20年。

1984年4月1日愚人节这一天，飞利浦和跟荷兰的一家小公司合资，成了一家新公司。新公司的缩写叫ALS，跟渐冻症的缩写是一样的。一直到1996年，这家公司改名叫ASML。 也就是现在，大名鼎鼎的ASML。 今年，ASML的High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”。其数值孔径 ...

2024年12月20日，中国——为了加快能效和功率密度都很出色的氮化镓(GaN)电源(PSU)的设计，意法半导体推出了EVL250WMG1L基于MasterGaN1L系统级封装(SiP)的谐振转换器参考设计。 意法半导体的MasterGaN-SiP在一个封装内整合了GaN功率晶体管与开关速度和控制准确度优化的 ...

尽管纳米压印（NIL）和电子束曝光（EBL）等技术在某些特定应用中显示出潜力，但在当前的芯片大规模制造中，光刻技术依然是主流。尤其是在高精度、大规模生产方面，光刻机扮演着无可替代的角色。 全球光刻机市场几乎被三家公司垄断：荷兰的ASML占据了约85 ...