腾讯网27 天
俄自研EUV光刻机，打破ASML垄断，走出了一条新路
我国氟化氩光刻机使用波长为193纳米的光源，而荷兰ASML的EUV光刻机使用波长为13.5纳米的光源，比DUV的光源要短14倍以上，其提供者就是美国Cymer公司 ...