脉冲激光沉积 - 百度百科
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
脉冲激光沉积技术知识介绍 - 知乎 - 知乎专栏
2022年11月23日 · 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD）制膜技术是利用高能激光束作为热源来轰击待蒸发材料，然后在基片上蒸镀薄膜的一种新技术。 激光光源可以采用准分子激光、CO2激光、Ar激光、钕玻璃激光、红宝石激光及…
微电子领域材料生长方法（七）脉冲激光沉积（PLD）_等离子体羽 …
2024年4月28日 · 脉冲激光沉积法（Pulse Laser Deposition, PLD）是一种高级的薄膜制备技术，它利用高能激光脉冲轰击目标材料，使其蒸发或升华，随后这些原子或分子在基片上冷凝形成薄膜。
亮点 | 有前途的高性能薄膜制备利器——脉冲激光沉积技术（PLD…
2024年1月15日 · 脉冲激光沉积 （pld）就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。
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脈衝雷射沉積（英語： Pulsed Laser Deposition ，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（英語： pulsed laser ablation ，PLA）為物理气相沉积(英語： Physical Vapor Deposition ，PVD)的一種 , 是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔體中對靶材進行轟擊，由於雷射能量極強，會將靶 ...
脉冲激光沉积 - 维基百科，自由的百科全书
脉冲雷射沉积（英语： Pulsed Laser Deposition ，PLD），也被称为脉冲雷射烧蚀（英语： pulsed laser ablation ，PLA）为物理气相沉积(英语： Physical Vapor Deposition ，PVD)的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲雷射于真空腔体中对靶材进行轰击，由于雷射能量极强，会将靶 ...
脉冲激光沉积(PLD)技术及其应用研究-【维普期刊官网】- 中文期 …
大量研究表明,脉冲激光沉积技术是目前最好的制备薄膜方法之一。 综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的原理、特点,着重分析了脉冲激光沉积技术的研究现状和在功能薄膜制备中的应用前景。
文中介绍了脉冲激光沉积薄膜的基本原理及优势特点，分析了pld技术在制备半导体膜、超导与铁性 薄膜、保护薄膜及其他功能薄膜方面的应用研究。 报道表明，PLD技术是目前最好的制备薄膜的方法之一，
脉冲激光沉积_科普中国网 - kepuchina.cn
2018年2月13日 · 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。 简介
脉冲激光沉积：从实验室研究到规模量产 -- 工业应用频道 - 《激光 …
但近年来，脉冲激光沉积 (pld) 已成为许多新兴薄膜应用的首选技术之一，从纯实验室研究工具转变为现如今的大规模量产。 本文带大家一起来看看 PLD 的工作原理、主要优势和一些有趣的应用。